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다공성 영역을 구비한 임플란트 픽스쳐
专利权人:
EDENTECH INC.
发明人:
KIM, GI SOOKR,김기수,JEONG, JIN YOUNGKR,정진영
申请号:
KR1020140062150
公开号:
KR1020140141463A
申请日:
2014.05.23
申请国别(地区):
KR
年份:
2014
代理人:
摘要:
The present invention relates to an implant having multi-layer porous areas, which improves the adhesion to bones and the performance of implant. At least some surface of the body of implant fixtures have porous areas with a plurality of cavities and the cavities are patterned.COPYRIGHT KIPO 2015본 발명은 다층을 가지는 다공성 영역을 구비하는 임플란트에 관한 것으로, 골과의 유착성을 향상시키며, 임플란트의 기능 회복을 향상시킬 수 있다. 이를 위해 임플란트 픽스쳐의 몸체의 표면 중 적어도 일부에 복수의 공동을 구비하는 다공성 영역이 형성되며, 복소의 공동은 패턴화되어 있는 것을 특징으로 한다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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