SUNG JIN CHOI,최성진,BU IL KIM,김부일,HYUN YOUNG KANG,강현영
申请号：
KR1020180030322
公开号：
KR1020190108802A
申请日:
2018.03.15
申请国别(地区):
KR
年份:
2019
代理人:
摘要：
The present invention relates to a high-elasticity cosmetic patch. More specifically, the present invention relates to the high-elasticity cosmetic patch which improves a tensile strength and shrinkage restoring force of a patch to prevent a problem of snapping the patch during stretching as well as improves a skin lifting effect by high shrinkage restoring force.COPYRIGHT KIPO 2020본 발명은 고탄력 미용 패치에 관한 것이며, 보다 구체적으로 패치의 인장 강도 및 수축 복원력을 향상시켜 신장시 패치가 끊어지는 문제를 방지할 수 있을 뿐만 아니라 높은 수축 복원력에 의해 피부 리프팅 효과를 향상시키는 것이 가능한 고탄력 미용 패치에 관한 것이다.
