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DRESSING STRUCTURE
专利权人:
TATUNG COMPANY
发明人:
LEE, CHENG YANG,李政洋,李政洋
申请号:
TW102215493
公开号:
TWM471251U
申请日:
2013.08.16
申请国别(地区):
TW
年份:
2014
代理人:
摘要:
A dressing structure including a composite substrate and a gel layer is provided. The composite substrate includes a first substrate and a second substrate. The first substrate has a plurality of first pores. The second substrate has a plurality of second pores. The second and the first substrates are flat and unwrinkled. The gel layer is at least disposed between the first substrate and the second substrate.一種敷料結構,其包括複合基材層以及膠體層。複合基材層包括第一基材層以及第二基材層。第一基材層具有多個第一孔洞。第二基材層具有多個第二孔洞。第二基材層與第一基材層為平整的且無皺褶。膠體層至少配置於第一基材層與第二基材層之間。100‧‧‧敷料結構110‧‧‧複合基材層112‧‧‧第一基材層112’‧‧‧第一孔洞112a、114a‧‧‧表面114‧‧‧第二基材層114’‧‧‧第二孔洞120‧‧‧膠體層d1、d2‧‧‧尺寸
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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