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一种头戴式焊接面罩
专利权人:
WUHAN WELHEL PHOTOELECTRIC CO., LTD;武汉威和光电股份有限公司
发明人:
HUANG, SHangyou,黄上游
申请号:
CNCN2019/120757
公开号:
WO2020/134796A1
申请日:
2019.11.25
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
Disclosed is a head-mounted welding mask, comprising a mask shell (1), a head-mounted mechanism (2), and an overturning device (3), wherein the overturning device (3) comprises a rotary knob (31) connected to the mask shell (1), a connecting rod mechanism (32) connected to the rotary knob (31), and a base (33) connected to the head-mounted mechanism (2); and the connecting rod mechanism (32) is arranged on the base (33), and when the rotary knob (31) is moved, the connecting rod mechanism (32) is driven to move in a reciprocating arc manner, so that the mask shell (1) is overturned relative to the head-mounted mechanism (2), and after overturning, the center of gravity of the mask shell (1) moves within a setting range, taking a gravity line where the center of gravity of the head-mounted mechanism (2) is located as a reference. The overturning device (3) changes the position of the center of gravity of the mask shell (1) by means of the movement of the connecting rod mechanism (32), and the sense of pressure on the head of a welder after the mask shell (1) is turned over is relieved.L'invention concerne un masque de soudage porté sur la tête, comprenant une coque de masque (1), un mécanisme porté sur la tête (2), et un dispositif de retournement (3), le dispositif de retournement (3) comprenant un bouton rotatif (31) relié à la coque de masque (1), un mécanisme de tige de liaison (32) relié au bouton rotatif (31), et une base (33) reliée au mécanisme porté sur la tête (2) ; et le mécanisme de tige de liaison (32) étant disposé sur la base (33), et lorsque le bouton rotatif (31) est déplacé, le mécanisme de tige de liaison (32) est entraîné pour se déplacer en arc de va-et-vient, de telle sorte que la coque de masque (1) est retournée par rapport au mécanisme porté sur la tête (2), et après le retournement, le centre de gravité de la coque de masque (1) se déplace dans une plage de réglage, en prenant une ligne de gravité où le centre de gravité du mécanisme porté s
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
相关发明人
huang, shangyou
黄上游
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