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Plasma sterilization system and method
专利权人:
スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー
发明人:
カレブ ティー.ネルソン,アサンプタ エー.ジー.ベンナールス-エイデン,マシュー ティー.ショルツ,ペトラ エル.コーラーリエディ,スティーブン ピー.スワンソン,ナーディン エス.アバディアー
申请号:
JP2018568404
公开号:
JP2019531105A
申请日:
2017.06.29
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
Disclosed is a system and method for sterilizing or disinfecting an article, specifically a hollow interior region of a medical device. The system includes a plasma generator having an electrode, a shield, and a dielectric gap between the electrode and the shield. A power source is connected to the plasma generator to apply an electron energy density between the electrode and the shield. A source of gas including water vapor, oxygen, and nitrogen provides a gas flow between the electrode and the shield to generate a plasma containing acidic and / or oxidizing species. In an exemplary system, if the electron energy density is greater than 0.05 eV / molecule of gas, the temperature at the shield surface is less than 150 ° C. Also disclosed is a method for disinfecting a biofilm or spore contaminated article by exposing the contaminated article to plasma for an exposure time sufficient to achieve a reduction of at least 2-log10 colony forming units. The物品、具体的には、医療器具の中空内部領域を滅菌又は消毒するためのシステム及び方法が開示される。本システムは、電極、シールド、及び電極とシールドとの間の誘電ギャップを有するプラズマ発生器を含む。電極とシールドとの間に電子エネルギー密度を適用するために、電力源がプラズマ発生器に接続されている。水蒸気、酸素、及び窒素を含むガスの供給源が、酸性種及び/又は酸化種を含むプラズマを生成するために電極とシールドとの間にガス流を提供する。例示的なシステムにおいて、電子エネルギー密度がガスの0.05eV/分子より大きい場合、シールド表面における温度は、150℃未満である。また、少なくとも2-log10コロニー形成単位の減少を達成するのに十分な暴露時間の間汚染物品をプラズマに暴露することによって、バイオフィルム又は胞子で汚染された物品を消毒するための方法が開示される。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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