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基于模型的位置测量校正
专利权人:
韦伯斯特生物官能公司
发明人:
A·戈瓦里,A·C·阿尔特曼,Y·埃夫拉思
申请号:
CN200710106469.3
公开号:
CN101081166B
申请日:
2007.06.01
申请国别(地区):
CN
年份:
2013
代理人:
摘要:
基于模型的位置测量校正在使用基于阻抗的测量技术时,通过对所显示的探头或导管的图像进行稳定化来改进对探头的显像。使用一个合理探头形状的模型和一种匹配算法对错误的探头图像进行调节,从而使得该探头图像在显示器上采用实际的形状。在该模型中还合并了一定的位置变化范围。当视在探头位置超出所允许的运动范围时,将所述探头图像约束到实际的位置。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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