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流体杀菌装置
专利权人:
东芝照明技术株式会社
发明人:
樱井公人,加藤刚雄,藤冈纯,田中贵章,聂栋兴
申请号:
CN202010085858.8
公开号:
CN111732158A
申请日:
2020.02.11
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
本发明的课题是维持杀菌性能。实施方式的流体杀菌装置包括处理室、光源室、分隔构件及第一膜。处理室对流体进行处理。光源室设置有朝向处理室照射紫外线的光源。分隔构件具有紫外线透过性,将处理室与光源室加以划分。第一膜将与处理室相向的分隔构件的第一面加以覆盖。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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