双模式调节-去调节型人工晶状体
- 专利权人:
- Z晶状体有限责任公司
- 发明人:
- P·M·比尔
- 申请号：
- CN201780065600.8
- 公开号：
- CN109890325A
- 申请日:
- 2017.23.08
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 双模式调节‑去调节型人工晶状体包括:襻系统(100),该襻系统包括具有形状记忆的多个闭合回形襻;形变式柔性光学部(105),该形变式柔性光学部包括前光学部囊和后光学部囊,前光学部囊和后光学部囊融合在一起,在它们之间限定填充有流体的光学部囊泡,其中襻附连到光学部,允许襻的动作改变光学部的形状,双模式AD‑IOL在静置时处于完全调节构造;可连接到襻的限制环(255)以及将限制环连接到襻的突片(240)使得襻固定在AD‑IOL的去调节构造中。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
