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CAPACITIVE TRANSDUCER AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND OBJECT INFORMATION ACQUIRING APPARATUS
专利权人:
CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人:
HASEGAWA, Yoshihiro,TOMIYOSHI, Toshio
申请号:
JPJP2014/064895
公开号:
WO2014/196584A1
申请日:
2014.05.29
申请国别(地区):
WO
年份:
2014
代理人:
摘要:
Provided is a capacitive transducer with improved reliability of sealing. The capacitive transducer includes a cell and a sealing portion. The cell includes a first electrode and a vibrating membrane having a second electrode formed to oppose the first electrode through intermediation of a cavity. An etching opening portion is formed to form the cavity by sacrifice layer etching. The sealing portion seals the etching opening portion. A gap at a periphery of the sealing portion has a height smaller than that of the cavity. In a manufacturing method therefor, in a step of forming a sacrifice layer for forming the cavity and the gap communicating to the cavity via an etching flow path, a height of the sacrifice layer in a region that is to become the gap is set to be smaller than that of the sacrifice layer in a region that is to become the cavity.La présente invention porte sur un transducteur capacitif ayant une fiabilité améliorée détanchéité. Le transducteur capacitif comprend une cellule et une partie détanchéité. La cellule comprend une première électrode et une membrane vibrante ayant une seconde électrode formée pour sopposer à la première électrode par lintermédiaire dune cavité. Une partie douverture de gravure est formée pour former la cavité par gravure de couche sacrificielle. La partie détanchéité scelle la partie douverture de gravure. Un intervalle au niveau dune périphérie de la partie détanchéité a une hauteur plus petite que celle de la cavité. Dans un procédé de sa fabrication, dans une étape de formation dune couche sacrificielle destinée à former la cavité et lintervalle communiquant avec la cavité par lintermédiaire dun trajet découlement de gravure, une hauteur de la couche sacrificielle dans une région qui est destinée à devenir lintervalle est réglée comme étant plus petite que celle de la couche sacrificielle dans une région qui est destinée à devenir la cavité.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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