68GA錯体の調製方法

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专利权人:

アドヴァンスド アッチェレラター アプリケーションズ ソシエテ アノニム

发明人:

フガッツァ・ロレンツァ,フィランニーノ・マリア・アズーラ,マリアニ・マウリツィオ・フランコ

申请号：

JP2014524396

公开号：

JP2014524423A

申请日:

2012.08.10

申请国别(地区):

JP

年份:

2014

代理人:

摘要：

A process for the preparation of complexes containing 68 Ga wherein a buffer formic acid/formate in the presence of compounds capable to sequester metal cations is used in the complexion reaction.68Gaを含有する錯体の調製方法であって、その錯体形成反応では、金属陽イオンを封鎖することが可能な化合物の存在下、緩衝剤ギ酸/ギ酸塩を用いる。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/