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唑类取代的吡啶化合物
专利权人:
大正制药株式会社
发明人:
田中宏明,川村圆,滨田诚,小桥阳平,伊藤勇次,铃木一瑛,坊野绫子,舟山浩介
申请号:
CN201880052001.7
公开号:
CN110914254A
申请日:
2018.10.08
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
本发明提供具有抑制产生20‑HETE的酶的作用的下述式[I]所示的化合物或其制药学上可接受的盐。上述式[I]中,下述式[II]所示的结构表示下述式组[III]所示的结构中的任一者;R1、R2、R3、和R4独立地表示氢原子、氟原子、甲基等,R5表示下述式组[IV]所示的结构中的任一者:。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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