PRODUCTION PROCESSES AND SYSTEMS, COMPOSITIONS, SURFACTANTS, MONOMER UNITS, METAL COMPLEXES, PHOSPHATE ESTERS, GLYCOLS, AQUEOUS FILM FORMING FOAMS, AND FOAM STABILIZERS

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专利权人:

E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY

发明人:

BOGGS, JANET,BRANDSTADTER, STEPHAN, M.,CHIEN, JOHN,SHARMA, VIMAL,EDWARDS, E., BRADLEY,HEDRICK, VICTORIA,JACKSON, ANDREW,LEMAN, GREGORY,NORMAN, EDWARD,KAUFMAN, ROBERT

申请号：

EP05712765

公开号：

EP1718723A4

申请日:

2005.01.28

申请国别(地区):

EP

年份:

2012

代理人:

摘要：

Production processes and systems are provided that include reacting halogenated compounds, dehalogenating compounds, reacting alcohols, reacting olefins and a saturated compounds, reacting reactants having at least two -CF3 groups with reactants having cyclic groups. RF­ compositions such as RF-intermediates, RF-surfactants, RF-monomers, RF-­monomer units, RF-metal complexes, RF-phosphate esters, RF-glycols, RF­ urethanes, and/or RF-foam stabilizers. The RF portion can include at least two -CF3 groups, at least three -CF3 groups, and/or at least two -CF3 groups and at least two -CH2- groups. Detergents, emulsifiers, paints, adhesives, inks, wetting agents, foamers, and defoamers including the RF-surfactant composition are provided. Acrylics, resins, and polymers are provided that include a RF-monomer unit. Compositions are provided that include a substrate having a RF-composition thereover. Aqueous Film Forming Foam (AFFF) formulations are provided that can include RF-surfactants and/or RF-foam stabilizers are provided.La présente invention concerne des procédés et des systèmes de production consistant à mettre en réaction des composés halogénés, à déshalogéner des composés, à mettre en réaction des alcools, à mettre en réaction des oléfines avec un composé saturé, à mettre en réaction des réactifs présentant au moins deux groupes -CF3 avec des réactifs présentant des groupes cycliques. La présente invention concerne également des compositions RF, telles que des intermédiaires RF, des agents tensioactifs RF, des monomères RF, des unités monomères RF, des complexes métalliques RF, des esters phosphoriques RF, des glycols RF, des uréthannes RF et/ou des stabilisateurs de mousse RF. La partie RF peut comprendre au moins deux groupes -CF3, au moins trois groupes -CF3 et/ou au moins deux groupes -CF3 et au moins deux groupes -CH2. Cette invention concerne aussi des détergents, des émulsifiants, des peintures, des adhésifs, des encres, des agents mouillants, des agents mo

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/