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用于利用聚焦的电磁辐射处理物质的装置和方法
- 专利权人:
- 视乐有限公司
- 发明人:
- 贝恩特·瓦姆,彼得·里德尔,克劳迪娅·格舍博特,弗兰齐斯卡·韦提恩尼克
- 申请号：
- CN201080069060.9
- 公开号：
- CN103209798B
- 申请日:
- 2010.09.30
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2015
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及一种用于利用聚焦的电磁辐射处理物质（M）的装置，其包括：发射电磁辐射（12）的源（10）；将辐射引导到物质（M）上的模块（14、16、18、22、26）；将辐射聚焦到物质（M）上或物质（M）内的模块（28）；在电磁辐射的光束路中产生图案（32）的设备（20）；在聚焦的辐射的焦点（F）以前的光束路中的至少部分反射性的表面（30），其中所述图案（32）通过所述引导辐射的模块和所述聚焦辐射的模块中的至少一些映像到所述至少部分反射性的表面（30）上；至少一个检测器（D1、D2），其上反射有所述表面（30）的图案（32）的图像且其产生与所述图像对应的电信号，其中该图像包含一条与焦点（F）位置相关的信息；计算机（C），接收所述电信号且被编制程序来处理所述图像以根据焦点位置产生电信号（34）；和发散调整元件（18），布置在所述光束路中且被设计成接收计算机（10）的所述电信号（34）以根据信号来改变电磁辐射的发散度。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
