PURPOSE: A dental implant washing apparatus is provided to effectively remove chemical biological pollutants existing in a dental implant which is infected or polluted, to minimize damages toward the shape of the dental implant, and to rapidly remove the chemical biological pollutants. CONSTITUTION: A dental implant washing apparatus(1) comprises a rotary shaft, an implant accommodating chamber to accommodate an implant inside while rotating in one body with the rotary shaft, and a brush(30) equipped with a wire bunch protruded to the inside of the implant accommodating chamber while being combined with the implant accommodating chamber. The wire bunch is formed with a soft material. The wire bunch is formed with a Ni-Ti material. The brush includes a brush body part being closely adhered to the outer periphery of the implant accommodating chamber. The wire bunch is installed at the end of the brush body part. The washing apparatus further includes an O-ring for fixing the brush to the implant accommodating chamber. The brush is fixed to the implant accommodating chamber by welding or soldering. The brush body part is formed with stainless steel.본 발명은 치아 임플란트 세척장치에 관한 것이다. 본 발명에 의한 치아 임플란트 세척장치는, 회전축: 상기 회전축과 일체로 회전되고, 내부에 임플란트를 수용할 수 있는 임플란트 수용부； 및 상기 임플란트 수용부에 결합되고, 상기 임플란트 수용부의 내측으로 돌출되는 와이어 다발을 구비하는 브러쉬를 포함한다. 따라서, 본 발명에 의하면, 치아 임플란트의 식립 이후에 치아 임플란트를 청결하게 유지할 수 있으며, 이미 감염된 임플란트의 경우에는 임플란트에 달라붙어 있는 오염물질을 임플란트 전체적으로 신속하게 제거(치료)함으로서 임플란트를 잇몸에서 제거하지 않고 유지할 수 있다.
