ニキビ改善用組成物

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专利权人:

ピアス株式会社

发明人:

藤本 智美,丸山 勝弘,藤原 茂久,濱田 和彦

申请号：

JP2014040792

公开号：

JP6353669B2

申请日:

2014.03.03

申请国别(地区):

JP

年份:

2018

代理人:

摘要：

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide acne-improving compositions, external preparations for skin, and cosmetics, having excellent acne-improving performance.SOLUTION: This invention provides acne-improving compositions, external preparations for skin, and cosmetics, including extract of Cynara scolymus and extract of Saxifraga stolonifera.

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/