您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

GAS SUPPLYING APPARATUS AND PLANT CULTIVATION SYSTEM
专利权人:
国立大学法人九州大学;KYUSHU UNIV
发明人:
HOSHINO YU,星野 友,OKAYASU TAKASHI,岡安 崇史,WATANABE TAKESHI,渡邉 猛,YAMASHITA CHIE,山下 知恵,MISUMI YOSHIE,三角 可恵
申请号:
JP2018052980
公开号:
JP2019162084A
申请日:
2018.03.20
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
To provide a gas supplying apparatus for plant cultivation which has a simple apparatus configuration and is capable of supplying gas suitable for the growth environment of a plant.SOLUTION: A gas supplying apparatus 100 for plant cultivation comprises: a housing part 12 which houses a material performing absorption and release of carbon dioxide and water reversibly corresponding to each partial pressure; a gas introduction part 14 which introduces first gas containing carbon dioxide and water and second gas having lower partial pressure of carbon dioxide than that of the first gas in a switchable manner into the housing part 12; and a gas discharge part 16 which discharges third gas having concentration and relative humidity of carbon dioxide higher than those of the second gas during the introduction of the second gas from the gas introduction part 14.SELECTED DRAWING: Figure 1【課題】シンプルな装置構成で、植物の生育環境に適したガスを供給することが可能な植物栽培用のガス供給装置を提供すること。【解決手段】植物栽培用のガス供給装置100は、二酸化炭素と水の吸収及び放出を、それぞれの分圧に応じて可逆的に行う材料を収容する収容部12と、収容部12に、二酸化炭素及び水を含む第1ガスと、第1ガスよりも二酸化炭素の分圧が低い第2ガスと、を切り替え可能に導入するガス導入部14と、ガス導入部14から第2ガスが導入されている間に、第2ガスよりも二酸化炭素の濃度及び相対湿度が高い第3ガスを排出するガス排出部16と、を備える。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充