The present invention relates to methods and systems for use of an electron beam system. The electron beam system may be used within a treatment center with very little radiation shielding. The electron beam system may be used in conjunction with low-z moderators that reduce the energy level of the electron beam without the need for complex or expensive energy control systems. The electron beam system may be used to treat skin cancer and dermatological patients in non-traditional treatment facilities, as well as invasive cancers, either in an unshielded operating room to deliver intraoperative radiation therapy ("IORT") or in an unshielded room in the oncology department to deliver electron beam radiation treatment ("EB-RT").La présente invention porte sur des procédés et sur des systèmes destinés à utiliser un système de faisceau délectrons. Le système de faisceau délectrons peut être utilisé à lintérieur dun centre de traitement avec une très faible protection contre les rayonnements. Le système de faisceau délectrons peut être utilisé conjointement avec des modérateurs daxe z faible qui réduisent le niveau dénergie du faisceau délectrons sans nécessiter de systèmes de commande dénergie complexes ou coûteux. Le système de faisceau délectrons peut être utilisé pour traiter un cancer de la peau et des patients dermatologiques dans des installations de traitement non classiques, ainsi que des cancers invasifs, soit dans une salle dopération non protégée pour délivrer une thérapie de rayonnement intra-opérative (IORT) soit dans une salle non protégée dans le département oncologie pour délivrer un traitement par rayonnement de faisceau délectrons (EB-RT).
