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一种适宜高寒山区种植作物的W型覆膜栽培结构
专利权人:
孙秀芝
发明人:
孙秀芝,吕风林
申请号:
CN201110368495.X
公开号:
CN103120106A
申请日:
2011.11.20
申请国别(地区):
中国
年份:
2013
代理人:
郑晋周
摘要:
本发明公开了一种适宜高寒山区种植作物的地膜覆盖栽培方法,包括轮作与整地、合理沟施肥料、W形地膜覆盖、选用良种与种子处理、适期播种与播种方式和田间管理。本发明以W形地膜覆盖技术为核心,覆膜较播种提前了8-12天,到播种时的膜下5cm的温度较先播种后覆膜的现有技术平均提高了1.7-2.0℃,膜下0-10cm的含水量提高了6.1-8.8个百分点起到了增温、保墒的作用。W形地膜覆盖在地膜平面上出现的播种穴,覆膜后只要有降雨,每个播种穴可积流1-2平方尺的降水,使无效降雨变成有效降水,起到了积流增墒的作用。配套其它栽培措施,其增产增收效果十分显著,经多年的试验表明,本发明较现有技术增产幅度在11.3%-21.4%。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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