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基于含有脲基团的单体的牙科材料
专利权人:
义获嘉伟瓦登特公司
发明人:
N·莫斯奈尔,Y·卡特尔
申请号:
CN201480035070.9
公开号:
CN105338947A
申请日:
2014.07.11
申请国别(地区):
CN
年份:
2016
代理人:
摘要:
含有根据通式I的脲衍生物的牙科材料,其中R1和R2在每种情况下彼此独立地为可以被-O-、-S-、-CO-O-间断的脂族C1-C15基团;X为可自由基聚合基团;Y为可自由基聚合基团或酸基团;n、m在每种情况下彼此独立地为1、2或3。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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