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陰イオン界面活性剤組成物
专利权人:
花王株式会社
发明人:
光田 義徳,河野 潤
申请号:
JP2010238436
公开号:
JP5575603B2
申请日:
2010.10.25
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anionic surfactant composition that contains a high concentration of a higher alcohol sulfuric ester salt and is excellent in fluidity and storage stability.SOLUTION: The anionic surfactant composition comprises: 55-70 mass% of the higher alcohol sulfuric ester salt (a) 0.10-4.0 mass% of 10-22C higher alcohol (b) 0.10-3.9 mass% of alkali metal carbonate (c) 0.10-1.9 mass% of alkali metal hydroxide (d) and water.COPYRIGHT: (C)2012,JPO&INPIT【課題】高級アルコール硫酸エステル塩を高濃度で含有し、且つ流動性及び保存安定性に優れた陰イオン界面活性剤組成物を提供する。【解決手段】(a)高級アルコールの硫酸エステル塩55~70質量%、(b)炭素数10~22の高級アルコール0.10~4.0質量%、(c)アルカリ金属炭酸塩0.10~3.9質量%、(d)アルカリ金属水酸化物0.10~1.9質量%、及び水を含有する、陰イオン界面活性剤組成物。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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