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含银高分子的封填材料及其于临床牙科的应用
专利权人:
杨正昌;邓乃嘉;谢松志
发明人:
扬正昌,邓乃嘉,谢松志
申请号:
CN201610347579.8
公开号:
CN105902397A
申请日:
2016.05.23
申请国别(地区):
CN
年份:
2016
代理人:
摘要:
本发明提供一种含银高分子的封填材料,包含:一卜特兰水泥;一银高分子,该银高分子可溶于水;一化合物,结构式如下式(I)、(II)或(III)所示:其中,M2+为二价金属离子,A‑、B‑、C2‑、D3‑各自独立为且相异的C1~C15有机酸根离子或无机酸根离子,x介于0至2,y介于0至4,且z介于0至6,该银高分子可提高该封填材料的一辐射遮蔽性、一机械物性、及一抑菌功能,可用于一牙部的根管填补或封填,改善封填材料的临床操作性质。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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