按摩足浴盆
- 专利权人:
- 吴树功
- 发明人:
- 吴树功
- 申请号：
- CN201420205237.9
- 公开号：
- CN204016100U
- 申请日:
- 2014.04.24
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2014
- 代理人:
- 摘要：
- 本实用新型公开一种按摩足浴盆，所述按摩足浴盆包括盆座和设置在盆座内部的盆体；所述盆体内部设有可容纳脚的盆腔，在盆腔内的盆体底部设有呈匹配对称设置的左按摩区和右按摩区，左按摩区内和右按摩区内分别设有足底按摩装置；所述足底按摩装置包括按摩转盘和偏心轴固按摩头；所述按摩转盘为圆形，所述偏心轴固按摩头固结于按摩转盘的顶面上，并且可以绕按摩转盘的圆心转动；所述按摩转盘的盘面上设置有至少两组沿按摩转盘周向方向均匀设置的按摩滚珠组。针对不同体质人群需求而设计，使用时可以因人而异，可以起到调整阴阳，平衡气血，疏通经脉的作用，达到强身的目的。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
