HULTMAN, Lars;ENGQVIST, Håkan;OLOFSSON, Johanna;ADURO MATERIALS AB;PETTERSSON, Maria
发明人:
PETTERSSON, Maria,ENGQVIST, Håkan,OLOFSSON, Johanna,HULTMAN, Lars
申请号：
IBIB2012/054471
公开号：
WO2013/030787A1
申请日:
2012.08.30
申请国别(地区):
IB
年份:
2013
代理人:
摘要：
An implant comprises a substrate and a coating on a surface of the substrate, and the coating comprises silicon nitride and has a thickness of from about 1 to about 15 micrometer. A method of providing the implant comprises coating a surface of the implant substrate with the coating comprising silicon nitride and having a thickness of from about 1 to about 15 micrometer by physical vapour deposition.L'invention concerne un implant qui comprend un substrat et un revêtement sur une surface du substrat. Le revêtement comprend du nitrure de silicium et a une épaisseur d'environ 1 à environ 15 micromètres. Un procédé de fourniture de l'implant consiste à revêtir une surface du substrat d'implant par le revêtement comprenant du nitrure de silicium et ayant une épaisseur d'environ 1 à environ 15 micromètres par dépôt physique en phase vapeur.
