一种祛痘霜及祛痘霜加工工艺
- 专利权人:
- 孙殿玉
- 发明人:
- 孙殿玉
- 申请号：
- CN202111167211.0
- 公开号：
- CN113813207A
- 申请日:
- 2021.10.04
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2021
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及祛痘霜加工，更具体的说是一种祛痘霜及祛痘霜加工工艺，一种祛痘霜加工工艺，该工艺包括以下步骤：步骤一：分别将不同的祛痘霜原料分别放置在祛痘霜加工装置上的多个提纯机构内；步骤二：加热机构对位于下侧的提纯机构进行加热进而对原料进行提纯；步骤三：搅拌机构对位于下侧提纯机构内的原料进行搅拌，抽取机构将位于下侧提纯机构内的原料进行抽取；一种祛痘霜，该祛痘霜的组分按照重量比例如下：洋甘菊精油16至18份；薰衣草精油7至9份；大黄20至30份；黄春菊10至20份；薄荷醇5至8份；甘油20至30份；丹参30至40份；蛇油16至18份。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
