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放電型光触媒反応装置
专利权人:
TOSHIBA CORP
发明人:
IIDA MIKIYA,飯田 幹也,KATO TOSHIMI,加藤 登志美,YAMAMOTO YUKITOSHI,山本 晋聡,UTO YOSHIHIRO,宇藤 吉広,NIDA YU,荷田 裕
申请号:
JP2011059827
公开号:
JP2012192376A
申请日:
2011.03.17
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a discharge type photocatalytic reaction apparatus excellent in radiation performance.SOLUTION: The discharge type photocatalytic reaction apparatus includes: a substrate that has an outer pattern in the peripheral part of a principal surface a discharge part that is connected with the substrate, and has a terminal for discharging electricity by a voltage of the substrate a catalyst section that has a photocatalyst activated by the discharge and an inner case that holds the peripheral part of the substrate and has a contact piece to be in surface contact with the peripheral part of the substrate on which the outer pattern is formed.COPYRIGHT: (C)2013,JPO&INPIT【課題】放熱性能に優れた放電型光触媒反応装置を提供する。【解決手段】一実施形態にかかる放電型光触媒反応装置は、主面の外周部分に外周パターンを有する基板と、前記基板に接続され、前記基板の電圧によって放電する端子を有する放電部と、前記放電により活性化する光触媒を有する触媒部と、前記基板の外周を保持するとともに、前記外周パターンが形成された前記基板の外周部分に面接触する接触片を有する内ケースと、を備える。【選択図】図2
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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