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エミッタの製造方法
专利权人:
株式会社エンプラス
发明人:
守越 大輔
申请号:
JP20170061619
公开号:
JP2018161113(A)
申请日:
2017.03.27
申请国别(地区):
日本
年份:
2018
代理人:
摘要:
【課題】ウェッジワイヤー構造を構成する複数の凸条を有するエミッタの製造方法であって、無理抜きをせずに上記複数の凸条を製造可能な方法を提供すること。【解決手段】本発明は、灌漑用液体を取り入れるための取水部と、灌漑用液体を吐出可能な吐出部と、前記取水部および前記吐出部を繋ぎ、前記灌漑用液体を流通させる流路と、を有し、前記取水部は、複数の凸条が配列されたウェッジワイヤー構造のスクリーン部を有する、エミッタの製造方法である。本発明の製造方法は、前記凸条よりも高さが高い複数の仮凸条を、前記凸条が配置されるそれぞれの位置に有する、前記エミッタの中間成形体を作製する工程と、前記複数の仮凸条を塑性変形させて前記複数の凸条を形成する工程と、を含む。【選択図】図7
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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