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一种含纳米氮化硼的胶原‑羟基磷灰石支架的制备方法
专利权人:
王淑芳
发明人:
王淑芳
申请号:
CN201610961478.X
公开号:
CN106581764A
申请日:
2016.11.04
申请国别(地区):
CN
年份:
2017
代理人:
摘要:
本发明涉及一种含纳米氮化硼的胶原‑羟基磷灰石支架的制备方法,通过液相还原反应制得纳米氮化硼,将其与胶原‑羟基磷灰石溶液混合均匀后一步法冻干并交联制备获得,其中纳米氮化硼的浓度范围为10ug/ml‑50ug/ml,纳米氮化硼粒子的粒径为10‑30nm。本发明的支架所需材料简单,无需复杂的技术要求和高端的设备需求,成本低,易于推广,为创面提供了合理的纳米氮化硼缓释体系,为创面提供长期有效的药物缓释,保持创面的药物浓度均衡有效且不过剩。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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