一种含纳米氮化硼的胶原‑羟基磷灰石支架的制备方法
- 专利权人:
- 王淑芳
- 发明人:
- 王淑芳
- 申请号：
- CN201610961478.X
- 公开号：
- CN106581764A
- 申请日:
- 2016.11.04
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及一种含纳米氮化硼的胶原‑羟基磷灰石支架的制备方法，通过液相还原反应制得纳米氮化硼，将其与胶原‑羟基磷灰石溶液混合均匀后一步法冻干并交联制备获得，其中纳米氮化硼的浓度范围为10ug/ml‑50ug/ml，纳米氮化硼粒子的粒径为10‑30nm。本发明的支架所需材料简单，无需复杂的技术要求和高端的设备需求，成本低，易于推广，为创面提供了合理的纳米氮化硼缓释体系，为创面提供长期有效的药物缓释，保持创面的药物浓度均衡有效且不过剩。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
