有恒定高暴露水平的奥曲肽贮库制剂

• 收藏
• 分享

专利权人:

诺华股份有限公司

发明人:

M·阿尔海姆,H·彼得森

申请号：

CN201510542720.5

公开号：

CN105233251A

申请日:

2009.12.14

申请国别(地区):

中国

年份:

2016

代理人:

张建`黄革生

摘要：

本发明涉及包含作为活性成分的奥曲肽或其可药用盐以及两种不同的线形聚丙交酯-共-乙交酯聚合物(PLGA)的缓释制剂。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/