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表面修飾ＩＴＯ粒子の製造方法
- 专利权人:
- 国立大学法人茨城大学;三菱マテリアル株式会社
- 发明人:
- 小林 芳男,米澤 岳洋,山崎 和彦
- 申请号：
- JP20150143593
- 公开号：
- JP2017024932(A)
- 申请日:
- 2015.07.21
- 申请国别(地区):
- 日本
- 年份:
- 2017
- 代理人:
- 摘要：
- 【課題】高温下で長時間使用しても、透明電極が有する電気抵抗値の上昇を大幅に抑制することができる表面修飾ＩＴＯ粒子の製造方法を提供する。【解決手段】ＩＴＯからなる母粒子にシランカップリング剤を用いて表面処理することにより得られる表面修飾ＩＴＯ粒子の製造方法であり、母粒子を溶媒に分散させた分散液を調製する工程と、シランカップリング剤として３−アミノプロピルトリメトキシシラン又は３−アミノプロピルエトキシシランのいずれかを含む表面処理液を調製する工程と、表面処理液中に含まれるシランカップリング剤を加水分解させることにより、加水分解後のシランカップリング剤が含まれる加水分解液を調製する工程と、母粒子が分散する分散液に加水分解液を添加して撹拌することにより、母粒子を表面処理する工程と
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
