The invention provides a process for depositing a film of hydroxyapatite nanoparticles on at least a surface region of a substrate, by modifying neutrality of p H- sensitive residues present on the surface of the nanoparticles.Linvention concerne un procédé de dépôt dun film de nanoparticules dhydroxyapatite sur au moins une région dune surface dun substrat, par modification de la neutralité de résidus sensibles au pH présents sur la surface des nanoparticules.