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内凹形氧化铁T2暗场磁共振成像造影剂的制备方法
专利权人:
厦门大学
发明人:
高锦豪,赵征寰,陈小元,池小琴,杨丽娇,黄登通
申请号:
CN201310537478.3
公开号:
CN103550794A
申请日:
2013.11.04
申请国别(地区):
CN
年份:
2014
代理人:
摘要:
内凹形氧化铁T2暗场磁共振成像造影剂的制备方法,涉及造影剂。1)在惰性气体氛围中,将铁元素的金属盐溶解于十八烯中,加入油酸、超纯水和氯化钠,所得溶液升温至回流状态进行回流反应;2)将步骤1)回流反应后的反应液自冷却至室温,并加入乙醇使产物沉淀,再进行离心处理后弃去上清液,将沉淀重新溶解并保存于溶剂中,即得到内凹形四氧化三铁纳米颗粒,即为内凹形氧化铁T2暗场磁共振成像造影剂。步骤简易,操作方便,产量较高,易于放大制备;所制备的内凹形氧化铁T2暗场磁共振成像造影剂具有很强的T2磁共振造影性能,从而能为磁共振成像对疾病的临床研究及诊断提供更精确和更可靠的依据。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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