A method of generating magnetic resonance-based slice exposures (KS 1 , KS 2 , KS 3 , ..., KS 8 ) of the object of inspection (0) is described. The measurement data for the stack of measurement slices (WS 1 , WS 2 , WS 3 , ..., WS 9 , FS 1 , FS 2 , FS 3 , ..., FS 9 ) Is initially obtained by a series of slice measurement sequences. A series of slice measurement sequences are designed to permit separation of a first material from a second material having a chemical shift defined in relation to the first material, and wherein measurement slices WS 1 , WS 2 2, WS 3, ..., WS 9) position (PWS 1, PWS 2) is the measured slice having a measured data for the second material (FS 1, FS 2, FS 3, ..., FS 9 a) (PFS 1 ) of the first and second blocks. The combined slice exposures KS 1 , KS 2 , KS 3 , ..., KS 8 are then formed, in which the respective first and second materials are displayed, wherein at least the first The measurement data of the material is combined with the measurement data of the second material from the at least one second slice measurement sequence such that the image data of the first and second materials are combined slice exposures KS 1 , KS 2 , KS 3 ,. (At least within a predetermined tolerance) to be precisely positioned with respect to each other in the first, second, ..., KS 8 . In addition, a measurement data processing unit 20 for implementation of the method according to the present invention and a magnetic resonance system 1 having such a measurement data processing unit 20 are described.검사 대상(0)의 자기 공명-기반 슬라이스 노출들(KS1, KS2, KS3, ..., KS8)을 생성하는 방법이 설명된다. 검사 대상(0)에 걸친 측정 슬라이스들(WS1, WS2, WS3, ..., WS9, FS1, FS2, FS3, ..., FS9)의 스택에 대한 측정 데이터가 처음에 일련의 슬라이스 측정 시퀀스들에 의해 획득된다. 일련의 슬라이스 측정 시퀀스들은, 제1 물질과 관련하여 정의된 화학적 시프트를 갖는 제2 물질로부터 제1 물질의 분리를 허용하도록 디자인되고, 제1 물질에 대한 측정 데이터를 갖는 측정 슬라이스(WS1, WS2, WS3, ..., WS9)의 위치(PWS1, PWS2)는 제2 물질에 대한 측정 데이터를 갖는 측정 슬라이스(FS1, FS2, FS3, ..., FS9)의 위치(PFS1)에 대해 공간적으로 시프트된다. 그 다음, 각각의 제1 및 제2 물질이 표시되는, 조합 슬라이스 노출들(KS1, KS
