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一种插层型金属氧化物抗菌剂的制备方法
专利权人:
中国科学院地球环境研究所
发明人:
曹军骥,高琴,王震宇,黄宇,姜柳
申请号:
CN202010898836.3
公开号:
CN112006032A
申请日:
2020.08.31
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
本发明公开了一种插层型金属氧化物抗菌剂的制备方法,向锰盐、钨盐或钼盐溶液中加入还原剂溶液,混合均匀,调节pH值为4~8,然后于120~250℃下反应6h~18h,分离并烘干,得到二维金属氧化物;将二维金属氧化物分散在水和有机溶剂的混合溶液中,然后加入细菌营养提取物溶液和可溶性金属盐溶液,0℃~10℃下进行超声剥离0.5~6h,滤掉上清液,离心分离并烘干,制得插层型金属氧化物抗菌剂。本发明制备的插层型金属氧化物抗菌剂具有主动靶向吸附空气中微生物的作用,依靠缓释金属阳离子对革兰氏阳性和革兰氏阴性细菌进行彻底杀灭,其抗菌性能高效且效果持久,在抗菌领域中的应用前景广阔。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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