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Method for Stimulating Plant resistance to Biotic stress by exposure to UV Radiation
专利权人:
UNIVERSITE DAVIGNON ET DES PAYS DE VAUCLUSE
发明人:
Laurent URBAN,LAURENT URBAN,Jawad AARROUF,JAWAD AARROUF,Dounyazade CHABANE SARI,DOUNYAZADE CHABANE SARI,Bernard ORSAL,BERNARD ORSAL
申请号:
CL2018000579
公开号:
CL2018000579A1
申请日:
2018.03.05
申请国别(地区):
CL
年份:
2018
代理人:
摘要:
The present Invention relates to a method to stimulate the Resistance of Plants to stress biÓtico through exposure to radiation of at least one Site of a Plant where exposure to ra.DiaciÓn through uv-c uv-b alone or alone, or a combination thereof with a duration of exposure that is less than or equal to a Second exposure to repeated RadiationL once with a time interval between one hour and one month.The Invention will find an application to stimulate the natural defenses of Plants Against stress biÓtico as pests, bacteria, fungi or viruses.The Invention could be used directly in plants that grow in the Fields for Agriculture and the food industry.LA PRESENTE INVENCIÓN SE REFIERE A UN MÉTODO PARA ESTIMULAR LA RESISTENCIA DE PLANTAS A ESTRÉS BIÓTICO MEDIANTE LA EXPOSICIÓN A RADIACIÓN DE AL MENOS UN SITIO DE UNA PLANTA EN DONDE LA EXPOSICIÓN A RADIACIÓN SE REALIZA MEDIANTE RAYOS UV-C SOLOS O RAYOS UV-B SOLOS O UNA COMBINACIÓN DE LOS MISMOS CON UNA DURACIÓN DE EXPOSICIÓN QUE ES MENOR O IGUAL A UN SEGUNDO Y LA EXPOSICIÓN A RADIACIÓN SE REPITE AL MENOS UNA VEZ CON UN INTERVALO DE TIEMPO ENTRE UNA HORA Y UN MES. LA INVENCIÓN ENCONTRARÁ UNA APLICACIÓN PARA ESTIMULAR LAS DEFENSAS NATURALES DE PLANTAS FRENTE A ESTRÉS BIÓTICO COMO PESTES, BACTERIAS, HONGOS O VIRUS. LA INVENCIÓN PODRÍA USARSE DIRECTAMENTE EN PLANTAS QUE CRECEN EN CAMPOS PARA LA AGRICULTURA Y LA INDUSTRIA ALIMENTARIA.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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