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用于处理表面的冷等离子体设备
- 专利权人:
- 皇家飞利浦有限公司
- 发明人:
- F·A·范阿比伦,E·G·M·佩尔泽斯,Y·P·J·鲍尔奎因,A·希尔格斯,R·C·M·武德斯,L-M·布罗克休伊斯
- 申请号：
- CN201780019763.2
- 公开号：
- CN108886866A
- 申请日:
- 2017.03.21
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 摘要：
- 本申请涉及一种用于利用冷等离子体处理表面(6)的冷等离子体设备(13)。该设备(13)具有冷等离子体发生器(14),其适于生成冷等离子体,该冷等离子体产生用于处理表面(6)的反应性物质。该设备(13)还包括可相对于表面(6)定位的处理头(5),使得在处理期间反应性物质朝向表面(6)被给予。该设备(13)还被设置有空气流发生器(8)以在表面(6)之上生成空气流,以及控制器(9),其被配置为控制空气流发生器(8)的操作以在处理已经完成之后,在表面(6)之上生成空气流,使得冷等离子体的剩余副产物被消散。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
