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INTERSPINOUS PROCESS SPACER IMPLANT.
专利权人:
LECHOSLAW FRANCISZEK CIUPIK
发明人:
LECHOSLAW FRANCISZEK CIUPIK
申请号:
MX2015014208
公开号:
MX2015014208A
申请日:
2015.10.08
申请国别(地区):
MX
年份:
2016
代理人:
摘要:
An interspinous process spacer implant includes first and second bodies each equipped with upper and lower projections. The implant also includes a hinge connecting central parts of the bodies to one another. The hinge allows the bodies to rotate relative to one another in a forward direction. The implant further includes an arresting mechanism that acts between the central parts of the bodies to block reverse rotation of the bodies relative to one another.Se proporciona un implante espaciador de proceso interespinoso que se implanta entre procesos espinosos de vértebras vecinas. Comprende - un primer cuerpo (1) con una primera parte central (3) que se extiende sobre una primera longitud (11) en una primera dirección longitudinal (5) y una primera altura (h1) en una primera dirección transversal (7), el primer cuerpo (1) está equipado con una primera proyección superior (13) que se extiende hacia arriba desde la primera superficie de apoyo superior (9) y con una primera proyección inferior (15) que se extiende hacia abajo desde la primera superficie de apoyo inferior (11), en donde la primera proyección superior (13) y la primera proyecten inferior (15) están localizadas en secciones longitudinales opuestas de la primera parte central (3) - un segundo cuerpo (29) con una segunda parte central (31) que se extiende sobre una segunda longitud (12) en una dirección longitudinal (33) y una segunda altura (h2) en una segunda dirección transversal (35), el segundo cuerpo (29) está equipado con una segunda proyección superior (41) que se extiende hacia arriba desde la segunda superficie de apoyo superior (37) de la segunda parte central (31) y con una segunda proyección inferior (43) que se extiende hacia abajo desde la segunda superficie de apoyo inferior (39) de la segunda parte central (31), en donde la segunda proyección superior (41) y la segunda proyección inferior (43) están localizadas en secciones longitudinales opuestas de la segunda parte central (31) - una bisag
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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