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積層体、延伸積層体、延伸積層体の製造方法、それらを用いた、偏光膜を含む光学フィルム積層体の製造方法、及び偏光膜
专利权人:
日東電工株式会社
发明人:
後藤 周作,宮武 稔,上条 卓史,國方 智
申请号:
JP20160507864
公开号:
JPWO2015137515(A1)
申请日:
2015.03.16
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
熱可塑性樹脂基材と、該熱可塑性樹脂基材上に製膜されたポリビニルアルコール系樹脂層とを含み、前記熱可塑性樹脂基材上に製膜されたポリビニルアルコール系樹脂層が前記熱可塑性樹脂基材と共に延伸された後に行われる後工程であって、ポリビニルアルコール系樹脂層を二色性物質により染色する染色工程を少なくとも含む後工程によって、該後工程による処理がされたポリビニルアルコール系樹脂層からなる偏光膜を形成するために使用される積層体であって、前記ポリビニルアルコール系樹脂層は、ポリビニルアルコール系樹脂とグリセリンを含む積層体。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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