BRANDT, LAUREL, D.,WEIMHOLT, MARK, J.,BORDEWICK STEVEN S.
申请号：
EP05800926
公开号：
EP1819402A4
申请日:
2005.09.28
申请国别(地区):
EP
年份:
2012
代理人:
摘要：
A face mask support for continuous positive airway pressure comprises a circumferential band with biasing means support at the crown of the head on the medial line of the head. The circumferential edge of the cap extends from just below the forehead of a patient to below the inion protrusion at the nape of the neck. A biasing means which is preferably of length of spring steel is formed so as to extend from the biasing means support hold a nasal or face mask apposed to the face of a patient. The circumferential band is stabilized by a band extending from the circumferential band at the region of the ear to the biasing means support.Linvention concerne un support de masque facial pour pression continue positive, qui comprend une bande circonférentielle dotée dun support pour moyen de sollicitation au niveau du sommet du crâne sur la ligne médiane de ce dernier. Le bord circonférentiel du casque sétend à partir du dessous du front jusquà la protubérance occipitale externe (inion) sur la nuque. Un moyen de sollicitation présentant une longueur constituée, de préférence, dacier à ressorts, est conçu de manière à sétendre du support pour moyen de sollicitation pour retenir un masque nasal ou facial apposé sur le visage du patient. La bande circonférentielle est stabilisée par une bande sétendant de la bande circonférentielle au niveau de la région de loreille au support pour moyen de sollicitation.
