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Pressurized gas injection device and method
专利权人:
黄;国▲倫▼
发明人:
黄 国▲倫▼,廖 振焜
申请号:
JP2019562454
公开号:
JP2020506026A
申请日:
2018.01.29
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
Problem to be solved: to provide a pressurized gas injection apparatus and method capable of satisfying the demands of high efficiency and safety.Exhaust unitExhaust unit having exhaust port and ventDisposed movably in the exhaust unit;A gas flow path is formed in a chamber connected to the gas reservoir unit and the gas flow pathA gas storage unit in which the volume of the chamber is adjustableAnd disposed on the inner wall of said exhaust unit;Seal ringIncludes two seal rings contacting the gas reservoir unitWhen said gas reservoir unit is located at a first position relative to said exhaust unitPressurized gasFlow into the chamber sequentially through the vent and the gas flow pathThe gas flow path is disposed between the seal ringsWhen said gas reservoir unit moves from said first position to second position relative to said exhaust unitThe gas channel is moved between the seal ring and the exhaust portAnd the pressurized gas in the chamberSequentially released from the pressurized gas injecting device through the gas flow path and the exhaust portThe pressure of the pressurized gas isPressurized gas injection equipment which is 5 MPa or more.Diagram【課題】 高効率および安全性の要求を満たすことができる加圧ガス注射装置および方法を提供する。【解決手段】 排気ユニットは、排気口および通気口を有する排気ユニット、前記排気ユニット内に移動可能に配置され、ガス流路がガス貯蔵ユニットおよび前記ガス流路に連結したチャンバに形成され、前記チャンバの体積が調整可能であるガス貯蔵ユニット、および前記排気ユニットの内壁に配置され、シールリングは、前記ガス貯蔵ユニットに当接する2つのシールリングを含み、前記ガス貯蔵ユニットが前記排気ユニットに対して第1の位置に位置したとき、加圧ガスは、前記通気口および前記ガス流路を介して前記チャンバに順次に流入し、前記ガス流路は前記シールリングの間に配置され、前記ガス貯蔵ユニットが前記排気ユニットに対して前記第1の位置から第2の位置に移動したとき、前記ガス流路は前記シールリングと前記排気口との間に位置するように移動し、且つ前記チャンバ内の前記加圧ガスは、前記ガス流路および前記排気口を介して前記加圧ガス注射装置から順次に放出され、前記加圧ガスの圧力は、5MPa以上である加圧ガス注射装置。【選択図】 図1A
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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