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用于向对象内的靶区域施加辐射的系统
专利权人:
皇家飞利浦有限公司
发明人:
G·L·T·F·豪特瓦斯特,D·宾内卡普
申请号:
CN201580010705.4
公开号:
CN106061541B
申请日:
2015.26.02
申请国别(地区):
CN
年份:
2019
代理人:
摘要:
本发明涉及一种用于向对象内的靶区域施加辐射的系统。如近距离放射治疗导管的引入元件(12)被插入到所述对象中,并且辐射源(10)在引入元件内移动,从而位于所述靶区域内或靠近所述靶区域。所述靶区域被加热,其中,根据沿着引入元件的温度来控制辐射源在引入元件内的移动。对象对于在沿着引入元件的长度的各位置处由辐射源发出的辐射的易受性能够取决于在各位置处的温度,使得可以通过根据沿着引入元件的长度的温度来控制辐射源的移动来优化对辐射的施加。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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