Es wird ein Verfahren zum Beschichten eines Implantats (I), insbesondere einer Prothese, durch Aufbringen von geladenen Teilchen (T) mittels Iontophorese auf zumindest einen Abschnitt (10, 20； 110, 120) der Implantatoberfläche (3, 13) bereitgestellt. Bei dem Verfahren werden geladenen Teilchen in einem elektromagnetischen Feld (E) beschleunigt und treffen auf der Oberfläche (3, 13) des Implantats auf, um zumindest abschnittsweise eine Beschichtung auf dem Implantat auszubilden. Die geladenen Teilchen weisen zumindest einen Wirkstoff auf.It is a method for coating of an implant (i), in particular of a prosthesis, by the application of charged particles (t) by means of iontophoresis to at least one section (10, 20； 110, 120) of the implant surface (3, 13) is provided. In the method, charged particles in an electromagnetic field (e) is accelerated and impinge on the surface (3, 13) of the implant, in order to at least in sections, a coating on the implant. The charged particles have on at least one active ingredient.
