人工爪用組成物、人工爪、除去液、及び人工爪用キット

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专利权人:

ピアス株式会社

发明人:

東條 健一,木村 和生

申请号：

JP2017034911

公开号：

JP2018140945A

申请日:

2017.02.27

申请国别(地区):

JP

年份:

2018

代理人:

摘要：

PROBLEM TO BE SOLVED To provide a composition for an artificial nail which can sufficiently remove the artificial nail after curing without using an organic solvent and can not remove the artificial nail after curing with ordinary water . A composition for artificial nails comprising an anionic monomer which is polymerized by a radical reaction is provided.Selection drawing None【課題】有機溶媒を用いなくても、硬化後の人工爪を十分に除去することができ、しかも通常の水では硬化後の人工爪を除去できない人工爪用組成物を提供することを課題とする。 【解決手段】ラジカル反応によって重合するアニオン性モノマーを含む、人工爪用組成物などを提供する。【選択図】 なし

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/