Beschrieben wird ein Dentalimplantat mit einem enossalen Implantatkörper (1, 1'), einem Kopf (3) sowie einer Hals- bzw. Biegezone (5, 5') und einer prothetisehen Plattform (8) oder einem Abutmentäquator (8a), wobei mindestens eine rotationssichernde Eingriffs-Fläche (6, 6') oder Teile davon unterhalb der prothetischen Plattform (8) oder des Abutmentäquators (8a) zu liegen kommen.The invention relates to a dental implant with an endosseous implant body (1, 1'), a head (3), a neck or bending zone (5, 5'), and a prosthetic platform (8) or an abutment equator (8a). At least one rotationally securing engagement surface (6, 6') or parts thereof come to rest below the prosthetic platform (8) or the abutment equator (8a).L'invention concerne un implant dentaire comprenant un corps implantaire endo-osseux (1, 1'), une tête (3), une zone col ou zone de flexion (5, 5') et une plate-forme prothétique (8) ou un équateur de butée (8a), au moins une surface de prise (6, 6') anti-rotation ou des parties de cette dernière venant à se trouver sous la plate-forme prothétique (8) ou l'équateur de butée (8a).
