一株用重复筛选方法获得的高抗紫外线细胞克隆

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专利权人:

云南大学

发明人:

陈穗云,夏光敏,肖春杰

申请号：

CN200610010858.1

公开号：

CN1844369A

申请日:

2006.04.27

申请国别(地区):

中国

年份:

2006

代理人:

杨宏珍

摘要：

本发明涉及一株用重复筛选方法获得的高抗紫外线细胞克隆，属于生物技术领域。本发明的高抗紫外线细胞克隆经由原生质体的获得及紫外线重复筛选工序得到，命名为Anti－UV Clone。该细胞克隆游离成原生质体后可耐受47.5J/cm²紫外线(UVA+UVB)照射。本发明具有操作简便、成本低、抗紫外线效果佳等优点。可用于细胞工程方法大规模繁殖并提取抗紫外线有效成分。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/