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Antimicrobial implant
专利权人:
株式会社プロステック
发明人:
土屋 弘行,橋本 幸信,山下 満好,石水 敬大,蔭山 夏美
申请号:
JP2019508126
公开号:
JPWO2018179357A1
申请日:
2017.03.31
申请国别(地区):
JP
年份:
2020
代理人:
摘要:
Problem to be solved: to provide an antimicrobial bioimplant capable of stably exhibiting excellent antibacterial stability for a long period of time.The base material 2 made of a metal material and the anodic oxide film 3 stacked on the substrate 2, and the anodic oxide film 3 is an antimicrobial implant 1 having an iodine rich layer 31 located on the interface s side with the substrate 2.長期にわたり安定して優れた抗菌性を発揮することができる抗菌性生体インプラントを提供する。 金属材料からなる基材2と、基材2上に積層されている陽極酸化皮膜3と、を備え、陽極酸化皮膜3は、基材2との界面S側に位置しているヨウ素リッチ層31を有する、抗菌性生体インプラント1。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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