一种具有新型纳米多层结构的薄膜及其制备方法

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专利权人:

中奥汇成科技股份有限公司

发明人:

白文琦,涂江平,王秀丽,金攻,李瑞玲,李玲玲,谢跃军

申请号：

CN201611012186.8

公开号：

CN106521435B

申请日:

2016.17.11

申请国别(地区):

CN

年份:

2019

代理人:

摘要：

本发明涉及一种具有新型纳米多层结构的薄膜及其制备方法,纳米多层结构的薄膜由依次沉积在基体上的锆底层及锆‑氮化锆‑碳多层结构构成。其中,锆底层厚度为200‑300nm,可提高薄膜的承载能力及与金属基底的结合力。锆‑氮化锆‑碳多层结构由锆单层、氮化锆单层及非晶碳单层构成,其中“氮化锆单层‑锆单层‑非晶碳单层‑锆单层”组成一个重复单元,多层结构由若干个重复单元构成。多层结构中,锆单层为密排六方结构,氮化锆单层为面心立方结构。纳米多层的薄膜具有高承载能力、高耐腐蚀及高耐磨的特点,并具有良好的生物相容性,在金属关节领域具有应用前景。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/