Water-soluble Scrub antimicrobial composition comprising a combination of sebum and Diallyl disulfide modified oxide (odd - m) and acid (Glycolic Acid) hidroxietan u00f3ico acts affecting the skin by eliminating bacteria, including those that cause acne, dich The composition also provides Deep Cleansing, Exfoliating Action,The epidermal cohesion decreases, which facilitates the replacement of cells, preventing the occurrence of various forms of acne on the skin and also produces seboregulating Properties to avoid plugging of the sebaceous glands.Claim 1: a water-soluble antimicrobial Pharmaceutical Composition and sebum, Scrub to remove or prevent microbial lesions of the skin, including acne, characterized in that it comprises of 0.001 to 10% w / W of the composition of Odd m, 1 to 12% p / p acid To hidroxietan u00f3ico (Glycolic Acid), 0.3 to 24% (W / W) of one or more Surfactants, 0.3 to 10% w / W of a Wetting Agent, 0.2 to 10% w / W of a flavouring Agent and 40 to 70% w / W of the composition of Aqueous solvent.Composición hidrosoluble antimicrobiana exfoliante y seborreguladora que comprende una combinación de Dialil Óxido de Disulfuro Modificado (ODD-M) y ácido a hidroxietanóico (ácido glicólico) que actúa eliminando las bacterias que afectan la piel incluyendo aquellas causantes del acné, dicha composición también proporciona una limpieza profunda, una acción exfoliante, disminuye la cohesión epidérmica que facilita el recambio celular, previniendo la ocurrencia de diversas formas de acné en la piel y adicionalmente produce efectos seborreguladores al evitar el taponamiento de las glándulas sebáceas. Reivindicación 1: Una composición hidrosoluble farmacéutica antimicrobiana, exfoliante y seborreguladora para eliminar o prevenir las lesiones microbianas de la piel, incluyendo el acné, caracterizada porque comprende del 0.001 al 10% p/p de la composición de ODD-M, del 1 al 12% p/p de ácido a hidroxietanóico (ácido glicólico), del 0.3 al 24% p/p de uno o m
