PURPOSE: A method for forming a coating film for implant is provided, which enables excellent fusion with bone in the surface of implant by low temperature plasma process. CONSTITUTION: A method for forming a coating film for implant comprises: a step of removing foreign material adhered to the surface of implant； and a coating step of forming a coating film having amine radical by polymerizing reaction gas by the plasma in the surface of implant. In the coating step, ammonia(65) is used as the reaction gas. In the plasma polymerization, electricity is discharged while pressure is maintained at 50-100m torr and the reaction temperature is maintained at 20-25 deg.C.본 발명은 임플란트 코팅막 형성방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 치아용 임플란트 표면에 아민기를 가지는 코팅막을 형성하여 골 재생이 우수한 임플란트 코팅막 형성방법에 관한 것이다.본 발명은 치아용 임플란트의 코팅막 형성 방법에 있어서, 임플란트의 표면에 묻어 있는 이물질을 제거하는 이물질제거단계와, 임플란트의 표면에 반응가스를 플라즈마 중합반응시켜 아민기를 갖는 코팅막을 형성하는 코팅단계를 포함한다.본 발명에 의하면 임플란트의 식립시 골세포 부착, 증식, 분화와 같은 세포 활동을 더욱 촉진시킬 수 있어 임플란트와 골과의 결합력을 향상시킬 수 있다.
