HALEY, Michael,HUBBARD, Dennis, Jr.,ROSIELLO, Keith
申请号：
USUS2010/049176
公开号：
WO2011/035062A3
申请日:
2010.09.16
申请国别(地区):
WO
年份:
2014
代理人:
摘要：
The technology relates to spray dried plasma and methods of making the same. The method includes providing plasma to a spray drying apparatus, spray drying the plasma, at the spray drying apparatus, to form physiologically active plasma powder, the spray drying apparatus configured utilizing one or more parameters, and storing the physiologically active plasma powder.Linvention porte sur une technologie relative au plasma séché par atomisation et sur des procédés de fabrication de celui-ci. Le procédé comprend la fourniture dun plasma à un appareil de séchage par atomisation, le séchage du plasma par atomisation, dans lappareil de séchage par atomisation, pour former une poudre de plasma physiologiquement active, lappareil de séchage par atomisation étant configuré pour utiliser un ou plusieurs paramètres, et le stockage de la poudre de plasma physiologiquement active.
