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放射成像系统
专利权人:
富士胶片株式会社
发明人:
村越大,多田拓司,阿贺野俊孝,高桥健治
申请号:
CN201180008286.2
公开号:
CN102740775A
申请日:
2011.02.02
申请国别(地区):
CN
年份:
2012
代理人:
摘要:
X射线成像系统具有X射线源(11)、第一和第二吸收光栅(31、32)、以及平板检测器(FPD)(30),并通过在x方向上相对于第一吸收光栅(31)移动第二吸收光栅(32)时执行成像,来获得对象H的相位对比图像。满足以下数学表达式DX≠n×(p1′×p2′)/p1′-p2′,其中,p1′代表在第二吸收光栅(32)的位置处的第一图案图像的周期,且p2′代表第二吸收光栅(32)的实质光栅间距,且DX代表FPD(30)的每个像素的X射线成像区域在x方向上的尺寸。此处,“n”代表正整数。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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